氨氣測定儀包括預處理系統、氣體分析儀和數據處理與顯示三大部分。本系統取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統基本原理是基于紫外差分吸收光譜技術及可調諧半導體激光吸收光譜技術；紫外差分吸收光譜技術原理為，同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收，不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用，通過對連續光譜做算法分析，可同時測量多種氣體，有效避免各組分相互干擾；分析技術已經廣泛應用到對于靈敏度、響應時間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監測領域。

　　氨氣測定儀的特點：

　　1、抽取式，無需對光，不受溫度變化導致煙道變形的影響；

　　2、采用激光光譜吸收法對氨進行監測，安裝簡單，維護量低；

　　3、可隨時通入標氣進行驗證標定，測量精度高；

　　4、根據環保要求，可從取樣探頭通入標準氣，實現系統標定；

　　5、整個系統采用防腐設計，保證系統長期可靠的運行；

　　6、從探頭到分析儀全程加熱，無吸附、無冷凝。整個采樣過程伴熱190℃以上，防止采樣過程對NH3產生吸附，保證了系統測量的準確性；

　　7、有效的防堵措施，采用高壓高頻吹掃方式對探頭進行清洗（反吹），防止煙氣污染分析部件；

　　8、因使用與NH3吸收波長相匹配的近紅外半導體激光，測量精度高，不受背景氣體交叉干擾。
 

　　氨逃逸的典型應用：

　　燃煤發電廠，鋁廠，鋼鐵廠，冶煉廠，玻璃廠，垃圾發電廠，水泥廠，化工廠等SCR或SNCR脫銷裝置的氨氣逃逸排放監測和過程控制。

四、氨逃逸系統流路簡介

    本系統的流路主要由測量流路、反吹流路、標定流路及渦旋制冷流路組成，具體流路示意圖如下：

    系統進入測量狀態后，電動執行機構帶動兩通球閥切換到采樣氣路，在引流泵的作用下，被測氣體經由探頭桿、，兩通球閥、二級過濾器進入NH3模塊，NH3模塊利用吸收技術（TDLAS）對氣體進行分析，得到NH3的濃度（高溫熱濕法），后排空。

    系統定時會進入校準狀態進行自動調零，此時兩通球閥切換到校準氣路，校準電磁閥打開，在引流泵的作用下，環境空氣經過濾器、校準電磁閥后進入氣體室，對氣體室中殘留的被測氣體進行吹掃，吹掃干凈后，對NH3進行一次調零；系統定時會進入反吹狀態對采樣探頭進行反吹，此時兩通球閥切換到反吹氣路，反吹電磁閥打開，系統自動控制反吹電磁閥開或關，實現對探頭過濾器的反吹。

五、氨逃逸系統取樣及機箱

取樣探頭

    裝置是具有電加熱伴熱功能，能自行加熱并實施溫控的采樣裝置。該裝置適用于高溫、高粉塵濃度的SCR/SNCR裝置入口和出口樣氣的連續采集。示意圖如下：