氨逃逸在線(xiàn)監(jiān)測(cè)系統(tǒng) 氨氣分析設(shè)備安裝

TK-1100型氨逃逸在線(xiàn)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)采用高溫伴熱抽取技術(shù)，對(duì)脫硝過(guò)程中的逃逸氨進(jìn)行連續(xù)在線(xiàn)監(jiān)測(cè),系統(tǒng)由取樣及傳輸單元、預(yù)處理及控制單元、分析單元三部分構(gòu)成，主要應(yīng)用于眾多工業(yè)領(lǐng)域氣體排放監(jiān)測(cè)和過(guò)程控制，例如:燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠、玻璃廠等。
TK-1100型氨逃逸分析儀采用TDLAS技術(shù)(可調(diào)諧半導(dǎo)體激光光譜吸收技術(shù)Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy)，為目前*進(jìn)的氣體測(cè)量方法之一，該儀表具有靈敏度高、響應(yīng)速度快、不受背景氣體干擾、非接觸式測(cè)量等特點(diǎn)，為實(shí)時(shí)準(zhǔn)確地反映NH3變化提供了可靠保證。氨逃逸激光分析儀氨逃逸監(jiān)測(cè)儀 氨逃逸在線(xiàn)監(jiān)測(cè) 逃逸案分析儀
2. 取樣探頭
 
2.1 裝置特點(diǎn)
SIN-T-003型取樣探頭用于本系統(tǒng)的樣氣采樣，具有濾塵和伴熱的功能，可以有效的防止采集的樣氣的冷凝，*的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)使采樣系統(tǒng)更加可靠，樣氣丟失率更小，保證分析系統(tǒng)的穩(wěn)定和真實(shí)；
產(chǎn)品特點(diǎn)：

1. 該裝置與樣品接觸的部分全部采用316L不銹鋼材料加工制成，高溫條件下抗腐能力很強(qiáng)。配制防雨罩*可以勝任室外工作環(huán)境。
2. 在設(shè)計(jì)上采用等溫加熱體，結(jié)構(gòu)緊湊，加熱溫度穩(wěn)定。
3. 過(guò)濾器濾芯采用SiC陶瓷過(guò)濾器，具有過(guò)濾面積大，過(guò)濾精度高等特點(diǎn)，更換時(shí)可將其從裝置中整體拉出，操作簡(jiǎn)單，無(wú)需工具，大大地縮短維護(hù)更換的時(shí)間，并降低了勞動(dòng)強(qiáng)度。
4. 該裝置除設(shè)有一樣氣輸出口外，還設(shè)置有一個(gè)可復(fù)用的反吹／校準(zhǔn)口，在配置時(shí)可靈活安排氣路。
5. 操作簡(jiǎn)單,帶有低溫報(bào)警.
6. 濾芯更換無(wú)需工具 。
7. 開(kāi)關(guān)方便，帶扣鎖保護(hù)罩
8. 高效過(guò)濾清潔系統(tǒng) 技術(shù)參數(shù)

1. ***高采樣溫度：300℃
2. ***大工作壓力：5bar
3. 采樣腔加熱溫度: 200℃（出廠設(shè)定，溫度可調(diào)）
4. 電源：220VAC 50/60Hz  400W
5. 環(huán)境溫度：－20~80℃
6. ***大粉塵濃度：100g/m3
7. 陶瓷濾芯過(guò)濾精度：2μm（其它精度可選，1-10μm）
8. 濾芯尺寸：150*40/20mm 
9. 反吹氣接口：OD8/6卡套式接頭。
10. 采樣氣出口：OD8/6卡套式接頭 
11. 含采樣探桿：￠25×1200mm/長(zhǎng)度可選
12. 安裝附件:安裝法蘭盤(pán)對(duì)裝法蘭盤(pán)安裝螺栓法蘭盤(pán)密封平墊

 
3、 氨逃逸工作流程
在使用TK-1100型逃逸氨激光分析儀時(shí)，樣氣經(jīng)采樣探頭，由采樣伴熱管輸送***預(yù)處理單元，預(yù)處理單元包括常閉型高溫閥SV1，精密過(guò)濾器、射流泵，其中SV1閥用于在停止采樣時(shí)切斷氣路，精密過(guò)濾器用于進(jìn)一步凈化樣氣，去除樣氣中的粉塵等，射流泵則用于提供樣氣傳輸時(shí)的動(dòng)力，系統(tǒng)由PLC控制實(shí)際自動(dòng)周期采樣及吹掃。所有樣氣流經(jīng)元件及管路均置于恒溫加熱盒中，防止管路被銨鹽堵塞，減少樣氣損失。
 
4、TK-1100型逃逸氨分析儀技術(shù)指標(biāo)
1 .測(cè)量參數(shù)

 
2.結(jié)構(gòu)參數(shù)

   
3．電氣參數(shù)

煙氣氨逃逸監(jiān)測(cè)分析儀系統(tǒng)（高溫抽取激光)

一、產(chǎn)品概述（煙氣氨逃逸監(jiān)測(cè)分析儀系統(tǒng)（高溫抽取激光)）

    脫硝氨逃逸一體化在線(xiàn)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)（TK-1100型）是由我公司榮譽(yù)出品，本系統(tǒng)包括預(yù)處理系統(tǒng)、氣體分析儀和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。本系統(tǒng)取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統(tǒng)基本原理是基于紫外差分吸收光譜（DOAS）技術(shù)及可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)；紫外差分吸收光譜技術(shù)原理為，同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收，不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用，通過(guò)對(duì)連續(xù)光譜做算法分析，可同時(shí)測(cè)量多種氣體，有效避免各組分相互干擾；激光光譜氣體分析技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用到對(duì)于靈敏度、響應(yīng)時(shí)間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監(jiān)測(cè)領(lǐng)域。

    本公司生產(chǎn)的脫硝氨逃逸一體化在線(xiàn)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)（TK-1100型）耐用且易于安裝，特別適用于眾多環(huán)保及工業(yè)過(guò)程氣體排放監(jiān)測(cè)，包括燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠等。

二、氨逃逸形成及危害

2.1 氨逃逸的形成

   在大規(guī)模燃燒礦物燃料的領(lǐng)域，例如燃煤發(fā)電廠，都安裝了前燃（pre-combustion)或后燃（post combustion）NOX 控制技術(shù)的脫硝裝置，后燃NOX 控制技術(shù)可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR)，但是無(wú)論應(yīng)用哪種方法，基本原理都是一樣的，即都是通過(guò)往反應(yīng)器內(nèi)注入氨與氮氧化物發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式，也可以先通過(guò)尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式，無(wú)論何種形式，控制好氨的注入總量和氨在反應(yīng)區(qū)的空間分布便可以***大化的降低NOX 排放。

    氨注入的過(guò)少，就會(huì)降低還原轉(zhuǎn)化效率，氨注入的過(guò)量，不但不能減少NOX 排放，反而因?yàn)檫^(guò)量的氨導(dǎo)致NH3 逃逸出反應(yīng)區(qū)，逃逸的NH3 會(huì)與工藝流程中產(chǎn)生的硫酸鹽發(fā)生反應(yīng)生成硫酸銨鹽，且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會(huì)在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀，例如沉淀在空氣預(yù)熱器扇面上，會(huì)造成嚴(yán)重的設(shè)備腐蝕，并因此帶來(lái)昂貴的維護(hù)費(fèi)用。在反應(yīng)區(qū)注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時(shí)也會(huì)出現(xiàn)氨逃逸現(xiàn)象，高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉(zhuǎn)化效率降低是一種非常糟糕的現(xiàn)象和很?chē)?yán)重的問(wèn)題。

 2.2氨逃逸的危害

（1）逃逸掉的氨氣造成資金的浪費(fèi)，環(huán)境污染；

（2）氨逃逸將腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活（即失效）和堵塞，大大縮短催化劑壽命；

（3）逃逸的氨氣，會(huì)與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽（具有腐蝕性和粘結(jié)性）使位于脫銷(xiāo)下游的空預(yù)器蓄熱原件堵塞與腐蝕；

（4）過(guò)量的逃逸氨會(huì)被飛灰吸收，導(dǎo)致加氣塊（灰磚）無(wú)法銷(xiāo)售；

三、規(guī)格與技術(shù)參數(shù)

四、氨逃逸系統(tǒng)流路簡(jiǎn)介

    本系統(tǒng)的流路主要由測(cè)量流路、反吹流路、標(biāo)定流路及渦旋制冷流路組成，具體流路示意圖如下：

    系統(tǒng)進(jìn)入測(cè)量狀態(tài)后，電動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)帶動(dòng)兩通球閥切換到采樣氣路，在引流泵的作用下，被測(cè)氣體經(jīng)由探頭桿、，兩通球閥、二級(jí)過(guò)濾器進(jìn)入NH3模塊，NH3模塊利用吸收技術(shù)（TDLAS）對(duì)氣體進(jìn)行分析，得到NH3的濃度（高溫?zé)釢穹ǎ?**后排空。

    系統(tǒng)定時(shí)會(huì)進(jìn)入校準(zhǔn)狀態(tài)進(jìn)行自動(dòng)調(diào)零，此時(shí)兩通球閥切換到校準(zhǔn)氣路，校準(zhǔn)電磁閥打開(kāi)，在引流泵的作用下，環(huán)境空氣經(jīng)過(guò)濾器、校準(zhǔn)電磁閥后進(jìn)入氣體室，對(duì)氣體室中殘留的被測(cè)氣體進(jìn)行吹掃，吹掃干凈后，對(duì)NH3進(jìn)行一次調(diào)零；系統(tǒng)定時(shí)會(huì)進(jìn)入反吹狀態(tài)對(duì)采樣探頭進(jìn)行反吹，此時(shí)兩通球閥切換到反吹氣路，反吹電磁閥打開(kāi)，系統(tǒng)自動(dòng)控制反吹電磁閥開(kāi)或關(guān)，實(shí)現(xiàn)對(duì)探頭過(guò)濾器的反吹。

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